高出力、高安定なガス供給型の宇翔製窒素パルスレーザ

TEL044-981-0025

ガスフロー型窒素パルスレーザ Nitrogen Laser KEN-C6020

紫外線サブナノ秒の窒素パルスレーザです。ガスボンベや施設ユーティリティから窒素ガスを供給することで長期間にわたり高い出力を安定して発振します。

特徴

  • パルス幅 900ピコ秒の単パルス。330 kwピーク出力を実現しました。
  • 低ノイズ設計。計測の分解能向上に大きく貢献します。
  • ガスフロー方式のためメンテナンスも低コストに抑えられます。
  • パルス充電印加による軽負荷作動により長寿命を実現。
  • ファイバカップリングユニットや光ファイバ、光トリガユニットも供給可能です。

窒素パルスレーザ仕様

波長 337.1 nm
パルスエネルギー 300 μJ
ピーク出力 330 kW @ 10 Hz
パルス幅 0.9 ns (900 ps)
連続ショット安定精度 <± 2.5 %
繰り返しレート 1 - 20 Hz
タイムジッタ Not specified
寸法(W x H x D) 300 x 150 x 580 mm
重量 13 kg
窒素ガス供給方式 ガス設備(ボンベや施設配管)
窒素ガス流量 1 liter/min @ 10 Hz
レーザクラス クラス 3B

※本体前面に電源ケーブル、後方にファイバカップラが接続されます。余裕を持った設置スペースをご用意ください。

株式会社宇翔

この製品は株式会社宇翔で製造し、当社が販売します。
ご使用中の製品で修理等お困りの場合は当社へご相談ください。

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